現在位置 : TOP > 受託業務 > ウェハ成膜・加工

ここから本文

左メニューここから

受託業務

左メニューここまで

ウェハ成膜・加工

シリコンウェハ成膜/加工

ラピスセミコンダクタ宮城では8インチのLSI量産ラインを使用し単層膜の形成・構造サンプル作成等の加工受託サービスを行なっております。
シリコンウェハ成膜については下記ご参照の上、お気軽にご連絡ください。

工程膜種8インチ
拡散炉熱酸化膜・アニール処理対応
常圧CVDシラン系膜(NSG、BPSG)未対応
TEOS系膜(NSG)対応
TEOS系膜(BPSG)対応
減圧CVDポリシリコン膜対応
窒化膜対応
TEOS膜対応
プラズマCVD窒化膜対応
酸化膜対応
TEOS酸化膜対応
HDP膜対応
メタルCVDチタン膜対応
タングステン膜(Si添加)対応
スパッタアルミ系膜(Si、Cu添加)対応
アモルファスSi対応
タングステン膜(Si添加)対応
チタン、チタンナイトライド膜対応
レジストコート対応
ポリイミドコート対応
CMP対応
イオン注入各種対応

具体的内容、膜厚等につきましては、ご相談ください。

依頼フォーム はこちらから別画面で開きます。